光刻应用

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        XZC光刻过 滤器采用一系列膜材料来有效地去除工艺中的污染物。消除了有害微粒污染,凝胶微桥缺陷,微泡空 洞缺陷以及晶片表面上的金属污染的可能性。高润湿 性膜不会阻碍空气排出,导致较 少的微泡形成和较短的吹扫时间。

        优化过 滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量,并最大 程度的减少了在晶片表面气泡缺陷的形成。过滤器 清除空气可防止形成微泡,这对于 减少涂层缺陷和提高产量至关重要。过滤器 的设计在两端提供较低的压差,并在分 配过程中最大限度地减少气泡的形成。

        XZC的过滤 器设计使用大表面积,低压差,从而提 高凝胶去除效率和最小化微泡形成。

        低操作 压力确保过滤器在分配过程中不会导致光化学物质释放出气体,因为它 们在分配过程中从高压分配到低压。这可以 通过具有低压降的过滤器来实现。尼龙6,6和高密 度聚乙烯膜与典型的光刻化学品完全兼容,在提取 物方面极其干净,并具有优异的润湿性。



 


        




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